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KLA텐코, 16나노 이하 반도체 공정용 계측 장비 2종 출시

5차원 수식 이용 정확도 높여

기사입력 : 2015.03.05

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[헤럴드 분당판교=오은지 기자]KLA텐코(지사장 정용식)는 5차원 수식을 이용한 16·14나노미터(nm) 반도체 미세공정용 계측장비 '아처(Archer)500LCM'과 '스펙트라필름(SpectraFilm) LD10' 2종을 출시했다고 5일 밝혔다.

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KLA텐코 장비가 웨이퍼를 계측하는 모습.


Archer500LCM은 오버레이 계측 시스템이다. 오버레이 장비는 반도체 웨이퍼 위에 화학 물질을 여러 겹 쌓을 때 각 층의 물질 위치가 제대로 잡혀 있는지를 확인하는 역할을 한다. 삼성전자·TSMC 등 반도체 제조업체는 16·14nm 선폭을 구현하기 위해 다중 패터닝 기술을 이용한다. 웨이퍼 위에 반도체 회로를 그려주는(패터닝) 핵심 포토 장비인 액침(이머전) 장비의 빛 파장으로는 미세 선폭을 그릴 수 없어 반도체 업체들은 더블 패터닝, 쿼드러플 패터닝을 이용한다. 이 때 각층별 위치가 틀어지면 반도체 칩에 불량이 생긴다.

이 장비를 이용하면 다중 패터닝, '스페이서 피치 스플리팅' 등 다양한 기술을 적용할 때 웨이퍼 위에 증착된 필름 각 층을 계측해 오류를 그때그때 바로잡아 수율을 높일 수 있도록 해준다.

SpectraFilm LD10은 필름 계측 시스템이다. 핀펫(FinFET, 물고기 꼬리모양), 3D 낸드플래시 등의 필름이 고르게 증착됐는지 두께를 측정하고 스트레스 계측을 통해 제품을 검증한다. 레이저 작동식 플라즈마 광원을 이용해 정밀도를 높였다. 기존 자사 장비 '앨러리스(Aleris)' 플랫폼보다 처리 속도가 높아 공정 속도를 높이는데도 도움을 준다고 회사측은 설명했다.

아프마드 칸 파라메트릭 솔루션스 그룹 부사장은 "비파괴 광학 계측을 통해 오버레이, 입계 치수, 필름 품질 문제를 파악해 수율을 높이고 차세대 기술을 연구하는 데 도움을 준다"고 말했다.

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KLA텐코의 오버레이 계측 장비 '아처(Archer)500 LCM'.


KLA텐코는 세계 1위 반도체 계측·검사 장비 업체로 전세계 오버레이 계측장비 시장의 약 90%를 점유하고 있다.


onz@heraldcorp.com

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